Introduzione alla produzione
La polvere di allumina calcinata a piastre per lucidatura è realizzata a partire da polvere di allumina industriale di alta qualità come materia prima e lavorata mediante uno speciale processo produttivo. La forma cristallina della polvere di allumina per lucidatura prodotta è esagonale, piatta e tabulare, da cui il nome di allumina piastrinica o allumina tabulare.
La purezza dell’allumina della piastra di allumina è superiore al 99% e presenta caratteristiche di resistenza al calore, resistenza alla corrosione da acidi e alcali ed elevata durezza. A differenza delle tradizionali particelle abrasive sferiche, la superficie inferiore dell’allumina piatta è piatta e le particelle si adattano alla superficie del pezzo durante la rettifica, producendo un effetto di rettifica scorrevole, che evita che gli angoli taglienti delle particelle graffino la superficie del pezzo. D’altra parte, durante la rettifica della piastra di allumina, la pressione di rettifica è distribuita uniformemente sulla superficie delle particelle, le particelle non si rompono facilmente e la resistenza all’usura è migliorata, migliorando così l’efficienza di rettifica e la finitura superficiale.
Per materiali semiconduttori come i wafer di silicio semiconduttore, l’applicazione di ossido di alluminio a piastra può ridurre i tempi di rettifica, migliorare notevolmente l’efficienza della rettifica, ridurre le perdite della rettificatrice, risparmiare manodopera e costi di rettifica e aumentare la velocità di passaggio. La qualità è simile a quella di noti marchi esteri.
L’efficienza di lavoro della molatura del bulbo di vetro del tubo catodico è aumentata di 3-5 volte;
Il tasso di prodotti qualificati aumenta del 10-15% e il tasso di prodotti qualificati di wafer semiconduttori raggiunge oltre il 99%;
Il consumo di molatura è inferiore del 40-40% rispetto alla normale polvere di lucidatura in allumina;
Composizione chimica
| Chimico | Valore di garanzia | Valore tipico |
| Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
| SiO2 | <0,2% | 0,017% |
| Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
| Na2O | <0,6% | 0,35% |
Proprietà fisiche
| Materiale | α-Al2O3 |
| Colore | Bianco |
| Peso specifico | ≥3,9 g/cm3 |
| Durezza di Mohs | 9.0 |
Taglie disponibili
| Tipo | D3(um) | D50 (uno) | D94 (um) |
| CA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
| CA40 | 39-44,6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
| CA35 | 35,4-39,8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
| CA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
| CA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
| CA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
| CA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
| CA12 | 11.8-13.8 | 7,6-8,8 | 4,5-5,3 |
| CA09 | 8,9-10,5 | 5.9-6.9 | 3,3-3,9 |
| CA05 | 6,6-7,8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| CA03 | 4,8-5,6 | 2.8-3.4 | 1,5-2,1 |
Applicazioni del prodotto
1) Industria elettronica: rettifica e lucidatura di wafer di silicio monocristallino semiconduttore, cristalli di quarzo, semiconduttori composti (gallio cristallino, nano fosfatazione).
2) Industria del vetro: molatura e lavorazione del cristallo, del vetro di quarzo, dello schermo in vetro del cinescopio, del vetro ottico, del substrato di vetro per display a cristalli liquidi (LCD) e del cristallo di quarzo.
3) Industria dei rivestimenti: rivestimenti e riempitivi speciali per spruzzatura al plasma.
4) Industria di lavorazione dei metalli e della ceramica: materiali ceramici di precisione, materie prime ceramiche sinterizzate, rivestimenti ad alta temperatura di alta qualità, ecc.
Suggerimenti
I valori indicati sono caratteristiche tipiche del materiale e non devono essere utilizzati per la stesura di specifiche. Sono soggetti alle tolleranze di produzione e soddisfano gli attuali standard della tecnica. Ci riserviamo il diritto di apportare modifiche nell’ambito del progresso tecnico o di miglioramenti interni.
